盐酸头孢噻呋超高速剪切胶体磨,盐酸头孢噻呋改进型胶体磨,是,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及分散的效果。
盐酸头孢噻呋胶体磨
设备选型上注意几点:
选定的胶体磨作为生产头孢噻呋、头孢喹肟等混悬液的关键设备,由于价格较贵,需要在厂家现场试验,考察研磨效果。为做好此项工作,制定方案如下:
试验目的:检验胶体磨的研磨效果以及效率
试验器材:试验用胶体磨、显微镜、载玻片、涂针、留样瓶、封口钳、8号针头、注射器,1ml移液管,温度计。
试验步骤:
1、现场确认设备的型号、性能、以及清洗方式。
2、加入物料,设定3分钟的研磨时间(假定4升物料研磨5分钟合格,那么放大至80升物料,需要研磨60分钟),取样检测粒度,记录粒度分布数量。用移液管测量流速,用8号针头测量通针性。以上数据作为比较两家设备的参数。
3、如果3分钟没有达到效果,则继续进行5分钟试验。以此类推,继续做好数据检测。
4、在研磨性能试验完成以后,利用现有物料对胶体磨进行连续开机试验,初步定为30分钟,试验胶体磨的产热降温性能。测量机体轴承处温度、测量研磨腔出来的料温温度,显微镜检查料液中是否有金属碎屑。以上数据作为比较两家设备的数据。
盐酸头孢噻呋胶体磨是
化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。
研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
GMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
盐酸头孢噻呋胶体磨 跟多额信息请
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
GMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 120000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。