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GMD2000珍珠粉研磨分散机

简要描述:GMD2000珍珠粉研磨分散机 ,上海思峻机械设备有限公司 珍珠粉研磨设备具有高转速高剪切低能耗能等优势,设备采用两级结构,*级采用的是胶体磨常用的磨头,第二级使用的是超细分散盘,二者结合后研磨效果更佳,分散均质效果会更好!

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  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-08-18
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详情介绍

GMD2000珍珠粉研磨分散机 ,上海思峻机械设备有限公司 珍珠粉研磨设备具有高转速高剪切低能耗能等优势,设备采用两级结构,*级采用的是胶体磨常用的磨头,第二级使用的是超细分散盘,二者结合后研磨效果更佳,分散均质效果会更好!

原料:珍珠,水

用途:化妆品行业、医药行业、食品行业、行业

粉体粒径:目前市场上正常销售的是10μm(1250目左右),经SKN管线式高剪切研磨分散机处理后的珍珠粉可以达到2-3μm(2000目左右),目前市场上仅有九江华汉科技有限公司销售2-3μm细的珍珠粉。

工艺:1、预粉碎:先将完整珍珠洗净初步破碎成颗粒状;

2、研磨:使用SGN研磨分散机研磨,将已经初步粉碎的颗粒状珍珠按一定配比与水混合进入SGN管线式高剪切研磨分散机,珍珠粉在SGN研磨分散机中经过数次循环后得出珍珠粉溶液,使用显微镜对物料粒径进行初步检测,珍珠粉粒径达到2-3μm(2000目左右)即为合格;

3、喷雾干燥:使用喷雾干燥塔对已经处理到2-3微米的珍珠粉溶液进行喷雾干燥,得出珍珠粉;

4、包装,贴标签;

GMD2000珍珠粉研磨分散机介绍:

针对珍珠粉处理的特殊性,使用SGN其它设备难以满足珍珠粉生产厂家的高标准要求,SKN研发工程师特对已开发的研磨分散机进行技术完善,将研磨分散机标准转速提高了一半,超高的转速直接提高了设备的线速度,大大缩减了物料在研磨分散机里循环的次数,极大的提高了珍珠粉的生产效率。

是上海思峻机械设备有限公司 经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。

 

研磨分散机工作原理:研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。

研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

GMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

设备等级:化工级、卫生S级、卫生SS级、无菌级电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ电机选配件: PTG 热保护、降噪型研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

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